"악스모비아 : 첨단 산업의 내일을 함께 배우고 나눕니다"

이 영상에서는 반도체 제조의 핵심 기술인 화학적 기상 증착(CVD)의 개념과 작동 원리, 그리고 주요 공정 방식을 상세히 다룹니다. CVD는 가스 간의 화학 반응을 통해 기판에 고체 막을 형성하는 기술로, 물리적 방식인 PVD보다 복잡한 구조를 균일하게 덮는 단차 피복성이 뛰어난 것이 특징입니다. 본문은 고온에서 고품질 막을 만드는 LPCVD, 플라즈마를 이용해 저온 공정을 가능케 하는 PECVD, 그리고 미세한 틈새를 메우는 데 특화된 HDPCVD의 차이점을 분석합니다. 또한 가스의 유입부터 배기까지 이어지는 5단계 메커니즘과 함께 절연막이나 금속 배선 등에 활용되는 다양한 사례를 소개합니다. 마지막으로 엔지니어가 온도, 압력, 가스 유량과 같은 변수를 조절하여 증착 속도와 막질의 균일도를 최적화하는 구체적인 방법론을 제시합니다.

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"악스모비아 : 첨단 산업의 내일을 함께 배우고 나눕니다"

이 영상은 식각을 크게 습식 식각(Wet Etching)과 건식 식각(Dry Etching)으로 나누어 설명합니다. 현대 나노 기술에는 정밀한 미세 패턴 구현이 가능한 건식 식각이 필수적임을 강조합니다. 특히 건식 식각은 플라즈마를 활용하며, 물리적 식각(양이온 충돌)과 화학적 식각(라디칼 반응)의 원리를 결합한 반응성 이온 식각(RIE)이 높은 방향성과 선택비를 동시에 달성하는 핵심 기술임을 설명합니다. 결론적으로, 식각 공정은 3D 구조의 고집적 반도체 생산에 있어 매우 중요하며, 방향성, 선택비, 균일도 등 5가지 핵심 요소를 정밀하게 제어해야 함을 소개합니다.

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이 영상은 반도체 제조의 핵심 공정인 화학 기계적 평탄화(CMP)의 개요와 시장 규모에 대한 정보를 제공합니다. CMP는 웨이퍼 표면의 단차나 요철을 제거하여 고집적 회로 제작을 가능하게 하는 공정으로, 화학적 작용과 기계적 마모가 동시에 일어나는 것이 특징입니다. 자료는 CMP가 미세화 및 고집적화 시대에 포토 공정 불량이나 전기적 특성 저하를 방지하는 필수 단계임을 강조합니다. 또한, 연마 대상 물질에 따라 산화막 CMP와 금속막 CMP로 구분하고 마지막으로 CMP 장비 및 슬러리 시장의 규모와 기술적 중요성을 간략하게 설명합니다.

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AI 반도체 칩은 어떻게 만들어질까요? 평범한 실리콘 웨이퍼가 복잡한 AI 칩으로 탄생하는 8가지 핵심 공정(8대 공정)을 10분 짜리로 만들었습니다.
[ 8대 공정: 웨이퍼 → 산화 → 포토 → 식각 → 증착/이온 → 배선 → 검사 → 패키징 ]

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안녕하세요, 악스모비아의 악어사장입니다.
이곳은 반도체 소부장과 첨단 산업의 흐름을 함께 배우고 나누는 공간입니다.
처음 접하는 분에겐 이해의 문을, 이미 전문가에겐 새로운 통찰을 함께 열어갈 채널이 되고 싶습니다.

이 영상에서는 반도체 패키징 기술의 정의, 중요성, 그리고 진화 과정을 설명합니다. 현대의 패키징은 단순히 칩을 보호하는 것을 넘어 전기적 연결, 열 관리, 소형화 및 고집적화를 실현하는 핵심 공정으로 정의됩니다. 여기에서는 전통적인 패키징 방식(DIP, BGA)에서부터 소형화 기술(CSP, PoP)을 거쳐, 2.5D/3D 패키징, SiP(System in Package)와 같은 첨단 기술로 발전하고 있음을 초점하여 제작하였습니다. 특히, 최신 공정 기술로는 웨이퍼 레벨 패키징(WLP), RDL(재배선층), 그리고 TSV(실리콘 관통 전극) 등이 고성능 컴퓨팅 및 모바일 환경에 필수적임을 강조합니다.

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이 영상은 반도체 공정의 핵심 단계인 건식 식각(Dry Etching)의 가스 및 전략을 실리콘(Si)과 산화막(SiO2) 두 가지 주요 소재에 집중하여 상세히 분석하고 있습니다. 이 분석은 원하는 구조에 따라 식각 방향을 비등방성(수직)과 등방성(전방향)으로 구분하고, 각각에 사용되는 주요 가스(HBr, Cl2, SF6, C4F8 등)와 작동 메커니즘을 명확히 설명합니다. 특히, Si 식각은 화학적 반응성을 활용하여 측벽 보호막을 형성하는 전략을 사용하며, SiO2 식각은 높은 결합 에너지 때문에 이온의 물리적 타격과 C/F 기반 폴리머 제어를 핵심 전략으로 사용하는 차이점을 강조합니다. 또한, 공정 제어를 위한 산소(O2)나 수소(H2)와 같은 첨가 가스의 역할까지 요약하여, 미세 패턴 구현을 위한 심도 있는 지침을 제공하고 있습니다.

#반도체공정 #건식식각 #DryEtching #식각가스 #HBr #Cl2 #SF6 #C4F8 #반도체사신 #공정엔지니어, #반도체기술, #반도체공정, #리소그래피, #반도체제조, #나노패터닝, #mems

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제시된 영상은 이온 주입 공정(Ion Implantation)의 원리와 첨단 반도체 제조에서의 응용 및 한계를 설명하는 글입니다. 이온 주입은 순수 실리콘 웨이퍼에 불순물을 주입하여 P형 또는 N형 반도체를 형성하고 전기적 특성을 부여하는 핵심 도핑(Doping) 과정입니다. 공정의 정밀도는 주입 깊이를 결정하는 에너지(Energy)와 주입량을 나타내는 도즈(Dose) 등의 변수를 통해 제어되며, 기존의 확산 공정보다 정밀하지만 물리적 손상을 야기하므로 후속 어닐링(Annealing) 열처리가 필수적입니다. 마지막으로, 트랜지스터가 3D 구조로 미세화되면서 발생하는 도핑 불균일성 및 불순물 확산 문제에 대한 플라즈마 도핑 및 초고속 열처리(RTA)와 같은 극복 방안을 제시하고 있습니다.

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이 영상은 차세대 2나노미터(nm) 이하 반도체 시대를 열 핵심 기술인 High-NA EUV(고개구수 극자외선 노광장비)에 대한 포괄적인 개요를 제시합니다. 이 기술은 기존 EUV 장비의 물리적 한계를 극복하기 위해 개구수(NA)를 0.55로 획기적으로 높인 것이 특징이며, 이를 통해 여러 번의 노광이 필요한 '멀티 패터닝' 대신 생산 효율성이 높은 '싱글 패터닝'을 가능하게 합니다. High-NA EUV를 구현하기 위해 자이스(Zeiss)사가 개발한 아나모픽 광학계와 초미세 공정에 필수적인 금속산화물 레지스트(MOR) 같은 혁신적인 기술적 요소들을 설명됩니다. 또한, 아나모픽 렌즈 도입으로 인해 발생하는 노광 면적 축소(하프 필드) 문제를 해결하기 위한 스티칭(Stitching) 기술의 중요성이 강조됩니다. 마지막으로, 인텔이 장비를 선제적으로 도입하는 공격적인 전략을 취하는 반면, TSMC는 비용 효율성 문제로 신중한 접근법을 보이는 등 주요 파운드리 기업들의 서로 다른 도입 전략을 분석하며 기술 선점 경쟁 구도를 조명합니다.

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이 영상은 반도체 설계 및 공정 엔지니어를 위해 실무적인 노광 공정 가이드를 제공하며, 이론과 실제 현장 간의 간극을 좁히는 데 중점을 둡니다. 스캐너 렌즈의 한계와 얼라인 키(Align Key) 선정 방식 등 수율에 직접적인 영향을 미치는 7가지 핵심 실무 요소를 상세히 다룹니다. 특히 렌즈의 스위트 스팟(Sweet Spot) 활용이나 CMP 공정을 고려한 더미 패턴 배치와 같이 공정 마진을 확보하기 위한 구체적인 설계 전략을 제시합니다. 또한 스티칭(Stitching) 오류와 중첩 오차(Overlay) 관리법을 설명하며, 이론적 수치보다 현장의 데이터와 경험이 우선되어야 함을 강조합니다. 결과적으로 이 텍스트는 칩의 완성도를 높이기 위해 설계 단계에서부터 공정 특성을 어떻게 반영해야 하는지에 대한 실질적인 지침을 담고 있습니다.

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학교에서 배운 교과서 내용과 반도체 실무의 융합!
물리, 화학 이론을 바탕으로 쉽게 반도체 공정을 이해하자.

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물리쌤이 설명해 주시는 빛의 성질을 이해함으로 PHOTO 공정의 원리를 파악하자.

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플라즈마와 라디칼로 이해하는 Etch공정에 대해 알아보자

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열역학 법칙에 이어 Fick의 법칙까지! 화학쌤이 알기 쉽게 설명해 주는 확산에 대하여 알아보자.

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화학쌤 설명을 통해 산화/환원 반응에 의한 박막 증착법을 알아보고, 4차 산업혁명 및 인공지능 등 미래반도체에 대해서도 배워보자

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DRAM과 NAND의 특징을 파악하고 Cleaning & CMP 공정에 대하여 알아보자

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드디어 후공정! 반도체 강사님과 함께 수율의 의미와 테스트의 목적에 대해 알아보자

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#반도체품질 #반도체신뢰성

Package공정에 대해 알아보고 HBM에 대해 쉽고 한번에 이해하자.

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전자기기에는 모두 반도체가 들어있다고요?
전자기기 어디에도 빠지지 않는 반도체가 무엇인지!
영국 런던의 타워브릿지를 여행하며 알아봅시다

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전자제품 속 반도체의 시장 규모는 어떠한지, 또 반도체 종류는 어떤 것들이 있을지!
실리콘밸리의 IT회사를 둘러보고 이야기해 볼까요?

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인류 최초의 Memory가 피라미드 안에 있다고요?
함께 이집트로 떠나볼까요?

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반도체 산업에서 빼 놓을 수 없는 무어의 법칙! 어디서 많이 들어봤는데,,,
이번 기회에 확실히 알아보아요!

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오늘은 페루로 떠나볼까요?
마추픽추와 와카치나 사막~! 반도체와 어떤 연관성이?!

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맛있는 과자를 먹으며 시작하는 반도체 여행~!
빛을 활용한 프랑스 생트샤펠 성당과 반도체 Photo 공정 이야기
사암산을 깎아 만든 요르단의 페트라와 반도체 Etch 공정 이야기

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평생 한 번쯤 가고 싶은 볼리비아의 우유니 소금 사막,
반도체 Thinfilm공정을 우유니 소금 사막에 빗대어 설명해 주신다니 너무 기대됩니다!
친구들과 같이 떠나봅시다

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NAND가 호수라고? 그렇다면 DRAM은?
비유를 통해 쉽게 설명해주시는 우리의 반도체 쌤!
캐나다 여행지를 통해 들려주실 이번 강의는 반도체의 동작원리!
DRAM과 NAND의 공통점과 차이점을 알아봅니다.

#SK하이닉스 #반도체하이스쿨 #반도체hy스쿨 #hy스쿨 #고교생반도체입문 #고교반도체 #고등학생반도체 #반도체공부 #DRAM #NAND #반도체동작원리 #반도체동작

전자산업의 발전 과정을 통해 유추해 보는 우리의 미래!
인공지능 기술 발전에 따른 앞으로의 미래를 상상해 봅니다

#SK하이닉스 #반도체하이스쿨 #반도체hy스쿨 #hy스쿨 #고교생반도체입문 #고교반도체 #고등학생반도체 #반도체공부 #반도체미래 #킬러애플리케이션 #인공지능

마지막 여행지는 반도체 강국 대한민국!
스마트 시티에 적용된 다양한 AI 기술들, 그 중심에는 SK하이닉스!!

#SK하이닉스 #반도체하이스쿨 #반도체hy스쿨 #hy스쿨 #고교생반도체입문 #고교반도체 #고등학생반도체 #반도체공부 #4차산업혁명 #AI #스마트시티

제곧설
앞으로 8대공정을 업로드하는 길고긴 여정을 할 예정입니다. 한 스무개는 올리지 않을까 해요.
이딴거 집어치우고 딴거 알려주길 원하시면 뭘 원하는지 댓글로 알려주세요!

****** 아주 중요한 수정이 있습니다!! 반도체공정에서 사용되는 모든 SiO2는 전부 amorphous상입니다!!!
마스크 바디로 사용되는 SiO2만 결정성이며, 그 이외의 모든 SiO2는 전부 다 amorphous 입니다.

최근 열역학을 다시 공부하면서 보게 된 내용인데, crystal SiO2가 증착되는 조건이 엄청나게 극단적인 환경이더라구요, 모든 공정은 amorphous입니다!!!!

0:37 부터 본론 들어갑니다.
13:13부터 요약들어갑니다. 시간없으면 여기부터 보세용
궁금한점은 댓글남겨주세요~

18:19 부터 오늘의 요약. 바쁘시면 요약만!
오늘은 조금 지루한 내용이 되어버렸네요...
하지만 여러분이 SiO2를 기르고 싶다면 적어도 시간에 따른 두께 식은 알고있어야겠죠?!

20:18 부터 요약.
제 8대공정 영상은 대부분 요약에 영상뒤에 있어요. 바쁘시면 그것만 보셔도 됩니다 : )

26:45 요약. 바쁘신분들은 여기로.
길고긴 산화 과정이 끝났습니다!! 다음엔 이온 주입과정을 설명 드리도록 할게요~

마침내 도핑공정에 대하여 시작합니다아!

17:05 부터 요약

14:08 부터 요약
어려운 역학은 죄다 빼고 하려하니 그것대로 어렵네요..!

0:20 후 열처리 공정 8:15 이온주입 마스크의 조건 11:00 SOI wafer 17:04 요약
감기조심하세요, 기말고사의 끝과 함께 감기를 얻었습니다.

20:32 부터 요약! 0:15 self aligned LDD 4:20 도핑농도측정
12:43 미래 이온주입 방법 17:45 SRIM
마침내 이온주입 과정이 끝이 났네요~ 다음부턴 증착에 대해서 올릴 예정입니다.
감기 조심하세요 여러분 영원히 안나아요.....

13:45 요약
인코딩 문제로 영상이 좀 버벅이네요 ㅠㅠ

10:01 요약
플라즈마를 영상으로 찍으면 한... 20분짜리 2편으로 나올거같은데 이걸 영상으로 만드는게 맞는걸까요 아닐까요...
댓글로 알려주세요..

11:29 부터 요약입니다.
CVD만 이렇게 세세하게 하면 PVD가 삐질거같아요. 특히 플라즈마 관련으로는 영상을 좀 더 찍어야 하는지... 고민이 많이 되네요!

14:10 요약
오늘 영상은 매우 중요해요! 근본적으로 왜 우리가 새로운 증착장비들을 만드는가에 대한 설명이 조금 들어있어요.
항상 쓰루풋을 높히기 위해 많은 시도를 하는데 어떤식으로 쓰루풋을 올리는지 한번 보세요 : )

16:40 요약!
역시 플라즈마는 하긴 해야할거같아요 ㅎㅎ 너무 케미컬하게만 설명한거같아서 물리가 화낼거같아요
: )b

17:56 요약!
으악 플라즈마는 역시 제가 디테일하게, 이쁘게 설명을 하기 어렵네요 ㅠㅠ 플라즈마는 물리과 사람에게 듣는게 가장 좋을거같아요 흑흑...

18:29 요약!
으으 낮은 퀄리티 영상 정말 죄송합니다. 제가 전공이 아닌지라..흑흑...
다음 영상부터는 설명을 좀더 깔쌈하게 할게요 죄송합니다 ㅠㅠ

오늘은 리뷰가 없어요! 처음부터 잘 봐주세요..! 꽤나 중요한 내용들이에요!

17:20 요약!
노광은 꼭 프리뷰 영상을 봐주세요..!! 중구난방이라 프리뷰를 보셔서 전반적인 흐름을 보고 하셔야해요.
노광 프리뷰 : https://www.youtube.com/watch?v=ksluh0IyEMo&t=28s
저 내용들을 한방에 다 하려 했다니....
orthogonal overlay 라는것에 대하여 정확히 아시는분은 댓글좀 달아주십쇼 ㅠㅠ

15:51 요약.
리소과정은 뭔가 설명이 중구난방이니 꼭 프리뷰 영상을 보고 나머지 영상을 시청해주세요~ : )

18:00 요약!
리소과정은 뭔가 설명이 중구난방이니 꼭 프리뷰 영상을 보고 나머지 영상을 시청해주세요 :~)

23:42 요약.
이 영상으로 노광이 끝나네요~
다음은 에칭으로 돌아오겠습니다. 담에봐요~ : )

3:30 STI 에 관하여 가 아닙니다!! 영상에 요류가 있어요. 이렇게 비율맞춰 파내고 Oxidation 시키는 방식을 Recessed LOCOS 라고 합니다. STI는 비율맞춰 파줄 필요 없이 에칭 후 약간의 Oxidation 이후 나머지 파낸 부분을 CVD로 Deposition 해서 채우는 방식입니다!! 중요한 점 지적해주신 하현욱 님 감사드립니다 사랑해요 : )
20:18 요약

STI의 에칭 비율은
https://www.youtube.com/watch?v=3wiRmXfHlrA&list=PLFvMmxdtlr7bx5760oUyKZjU6UJGwbxG3&index=4&t=1s
이 영상을 참고해주세요~

15:40 요약 복습!
다음영상부터 진짜로 웻에치 본격적으로 들어갈게요 ㅠㅠ

15:00 요약!
귀여운 클라인병을 녹여버리고싶다면 HF를 사용하면 되겠죠?ㅎㅎ

요약 25:50
증착 7 영상입니다.
https://www.youtube.com/watch?v=ulc36QmZGB8&t=616s

20:42 요약
이번 영상은 그냥 편하게 보시면 될거같아요 ( ͡⊙ ͜ʖ ͡⊙)

요약 19:14
오늘은 요약부분을 꼭 봐주세요, 영상에서 설명을 놓친 부분이 두군데 있었어요 ㅠㅠ
노트7도 그렇게 나쁘진 않네요..? 조금더 광각이라 왜곡이 있어보이긴 하네요...

18:20 요약!
태블릿을 이용하여 필기하며 설명을 해 봤습니다. 이전 영상들에 비해 이해하기가 쉬우신가요? 어려우신가요? 댓글로 의견을 남겨주세요.
만약 이게 더 이해가 안된다 싶으면 바로 롤백 하겠습니다. ㅎㅎ

9:35 요약!
후반부로 갈수록 복습이 많네요~ 기억이 안난다면 해당 영상 내용을 다시 찾아보는것도 좋은 공부가 될거같아요 : )

잘못된 식이 있어 수정하여 다시올려드립니다.
언제나 틀린것이 있다면 댓글달아주세요 : )

요약 후에 영상도 끝까지 봐주세요! 실수로 설명을 늦게 한 부분이 있어요. ㅠㅠ

18:08 복습.
이걸로 제가 알려줄 수 있는 반도체 공정의 디테일은 끝났습니다!
다음 몇 영상은 마지막으로 반도체공정 전반을 복습 할 수 있는 기회가 될 거에요 : )

Hello, this is NamRNam!
I made this video to explain the complexity of VLSI process of CMOS.
Currently, this is the only English video on my channel, but if you leave some comments about requesting English versions of my clips, I will happily make them!
한국인이시면, 곧 한국어 버전의 영상이 올라갑니다! 그걸 보셔도 됩니다 : )

이번 영상은 가장 단순한 디바이스인 인버터를 만드는 전 과정을 보여드리려고 했는데 너무길어서 중간에 잘랐습니다..ㅋㅋㅋ
매 스텝마다 사용한 공정, 그리고 그 공정에서 주의할 것들이 새록새록 떠올랐으면 좋겠어요 : )

갑자기 영어영상이 올라와서 당황하셨을 것 같습니다..!
영어영상이 올라가면, 수시간내에 한글영상이 올라갈 것이니 당황하지맙시다!

Did i say the process is 107 steps? I found out it was 111.
I made this video to explain the complexity of VLSI process of CMOS.
Currently, this is the only English video on my channel, but if you leave some comments about requesting English versions of my clips, I will happily make them!
한국인이시면, 곧 한국어 버전의 영상이 올라갑니다! 그걸 보셔도 됩니다 : )

제가 107단계라고 했는데, 거짓말입니다 ㅎㅎ 사실 111단계에요!
이걸로 반도체 전공정은 끝났네요.
다음에는 어떤 내용을 올릴까요? 댓글 달아주세요 : )

식에 오류가 있었던것을 수정하여 다시 업로드 합니다 : )
설명이 틀린것 같다면 언제나 댓글 달아주세요. 감사합니다.

급하게 만든 영상이라 논문에 대한 상세한 내용은 빠져있습니다.
혹시 영상 보는도중에 모르는 것이 있다면, 저의 공정 영상들이 도움될것입니다 : )

저작권에 문제가 될 시 즉각 내리겠습니다.

누구든 들어와 편하게 듣고 물어보고
누구든 편하게 답해주세요 읽어드릴게요

누구든 들어와 편하게 듣고 물어보고
누구든 편하게 답해주세요 읽어드릴게요

반도체 8대 공정의 연마공정 맛집 투어😋

버텨내겠다는 정신으로
한 땀 한 땀 연마하는 연마공정!
그 특별한 연마 수련(?) 과정을
영상에서 확인하세요😍🍿

반도체 8대 공정 골라보기👇
포토공정 편 https://youtu.be/52TnzJIxhjk
식각공정 편 https://youtu.be/KF8IEGx9j90
이온주입공정 편 https://youtu.be/7PfC526wO08
세정공정 편 https://youtu.be/dmx2qyddMkE
디퓨전공정 편 https://youtu.be/PjbAh2Yvlyg
메탈공정 편 https://youtu.be/2AxckXqsmxs
CVD공정 편 https://youtu.be/evLDq3Jbbnw

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📌편하게 보기
00:00 프롤로그
00:23 연마공정 맛집으로!
01:22 연마공정의 원리
01:43 특별한 무기(X) 도구(O)
02:34 뭐..?! 다이아몬드?!
04:28 쿠키영상🍪

#삼성전자반도체 #반도체8대공정 #연마공정

반도체 8대 공정의 CVD 공정 맛집 투어😋

CVD 공정이 없으면 반도체 칩도 없다고?
이것만으로도 얼마나 중요한 공정인지 알 수 있는 CVD 공정

그런 CVD 공정을 위해 CVD 공정 원탑이 등장했다?!
대체 얼마나 중요한 공정이길래…?
영상에서 확인하세요😍🍿

반도체 8대 공정 골라보기👇
포토공정 편 https://youtu.be/52TnzJIxhjk
식각공정 편 https://youtu.be/KF8IEGx9j90
이온주입공정 편 https://youtu.be/7PfC526wO08
세정공정 편 https://youtu.be/dmx2qyddMkE
디퓨전공정 편 https://youtu.be/PjbAh2Yvlyg
메탈공정 편 https://youtu.be/2AxckXqsmxs
연마공정 편 https://youtu.be/TABeQLKBFas

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00:00 프롤로그
01:55 메탈, 디퓨전공정과의 차이점은?
02:45 박막 두께 체감
03:16 CVD 공정 주요 기술★
05:41 쿠키영상🍪

#삼성전자반도체 #반도체8대공정 #CVD공정

반도체 8대 공정의 메탈공정 맛집 투어😋

메탈공정이 없으면 반도체 자체가 동작을 못 한다고?!
초등학생도 이해하는 메탈공정 한방 정리🤷
영상에서 확인하세요😍🍿

반도체 8대 공정 골라보기👇
포토공정 편 https://youtu.be/52TnzJIxhjk
식각공정 편 https://youtu.be/KF8IEGx9j90
이온주입공정 편 https://youtu.be/7PfC526wO08
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00:35 메탈공정이란?
00:53 메탈공정의 원리
01:44 메탈공정의 주재료는?
02:47 다양한 메탈공정 방식
05:41 쿠키영상🍪

#삼성전자반도체 #반도체8대공정 #메탈공정

반도체 8대 공정의 디퓨전공정 맛집 투어😋

디퓨전공정이 뭐냐구요?
이것만 기억하세요 [막.을.쌓.다]
자세한 설명은 영상에서 확인하세요😍🍿

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포토공정 편 https://youtu.be/52TnzJIxhjk
식각공정 편 https://youtu.be/KF8IEGx9j90
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00:36 오늘의 주인공
01:51 킬링★ 포인트
02:05 디퓨전공정은 쉽게 말해서
03:59 디퓨전과 CVD의 차이점?
04:32 실제 디퓨전공정 과정
06:24 쿠키영상🍪

#삼성전자반도체 #반도체8대공정 #디퓨전공정

반도체 8대 공정의 세정공정 맛집 투어😋

단.한.톨의 먼지도 용납하지 않는다!
먼지로부터 웨이퍼를 지키는 든든한 보디가드가 있다?!😎
영상에서 만나보시죠 😍🍿

반도체 8대 공정 골라보기👇
포토공정 편 https://youtu.be/52TnzJIxhjk
식각공정 편 https://youtu.be/KF8IEGx9j90
이온주입공정 편 https://youtu.be/7PfC526wO08
디퓨전공정 편 https://youtu.be/PjbAh2Yvlyg
메탈공정 편 https://youtu.be/2AxckXqsmxs
CVD공정 편 https://youtu.be/evLDq3Jbbnw
연마공정 편 https://youtu.be/TABeQLKBFas

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00:00 프롤로그
00:47 세정공정이란?
01:12 세정공정의 중요성
01:49 세정 방식의 분류
03:24 실제 모습은?
05:27 쿠키영상🍪

#삼성전자반도체 #반도체8대공정 #세정공정

반도체 8대 공정의 이온주입공정 맛집 투어😋
오늘의 주인공은 바로 ‘이온주입공정’ 맛집!

반도체에 생기를 불어넣어 줄 반도체 마법사를
영상에서 만나보시죠 😎🍿

반도체 8대 공정 골라보기👇
포토공정 편 https://youtu.be/52TnzJIxhjk
식각공정 편 https://youtu.be/KF8IEGx9j90
세정공정 편 https://youtu.be/dmx2qyddMkE
디퓨전공정 편 https://youtu.be/PjbAh2Yvlyg
메탈공정 편 https://youtu.be/2AxckXqsmxs
CVD공정 편 https://youtu.be/evLDq3Jbbnw
연마공정 편 https://youtu.be/TABeQLKBFas

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00:00 반도체 유니버스 시작
00:57 이온주입공정이 중요한 이유
01:41 이온주입공정의 핵심
02:11 이온은 어떻게 넣을까?
02:53 FAB으로 이동!
05:33 쿠키영상🍪

#삼성전자반도체 #반도체8대공정 #이온주입공정

반도체 8대 공정의 식각공정 맛집 투어😋
오늘의 주인공은 바로 ‘식각공정’ 맛집!
21세기의 반도체 미켈란젤로를
영상에서 만나보시죠 😎🍿

반도체 8대 공정 골라보기👇
포토공정 편 https://youtu.be/52TnzJIxhjk
이온주입공정 편 https://youtu.be/7PfC526wO08
세정공정 편 https://youtu.be/dmx2qyddMkE
디퓨전공정 편 https://youtu.be/PjbAh2Yvlyg
메탈공정 편 https://youtu.be/2AxckXqsmxs
CVD공정 편 https://youtu.be/evLDq3Jbbnw
연마공정 편 https://youtu.be/TABeQLKBFas

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00:00 식각공정은 반도체의 OOO이다?
00:31 무에서 유를 창조
00:51 식각공정이란?
01:31 얼마나 정교하길래?
02:05 식각공정 방식
03:46 임직원들의 고민으로 완성
04:35 갓-벽한 조각 장인
05:16 쿠키영상🍪

#삼성전자반도체 #반도체8대공정 #식각공정

반도체 8대 공정 맛집 투어😋
오늘의 주인공은 바로 ‘포토공정’
20년 포토장인과 함께하는 포토공정 맛집을
영상에서 확인하시죠 😎🍿

반도체 8대 공정 골라보기👇
식각공정 편 https://youtu.be/KF8IEGx9j90
이온주입공정 편 https://youtu.be/7PfC526wO08
세정공정 편 https://youtu.be/dmx2qyddMkE
디퓨전공정 편 https://youtu.be/PjbAh2Yvlyg
메탈공정 편 https://youtu.be/2AxckXqsmxs
CVD공정 편 https://youtu.be/evLDq3Jbbnw
연마공정 편 https://youtu.be/TABeQLKBFas

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00:00 삼겹살에 소ㅈ…?
00:38 노란빛 조명이 나를 감싸네
00:47 20년 포토장인📷
01:47 PR도표 작업
02:07 노광 작업
02:58 화룡점정 ★EUV★
03:29 현상 작업
03:40 패터닝 검사 작업
04:48 쿠키영상🍪

#삼성전자반도체 #반도체8대공정 #포토공정

이번 영상에서는 1,300시간 이상을 투입하여 제작한 3D 애니메이션을 통해, 세계에서 가장 복잡하고 정밀한 공정인 마이크로칩 제조 기술의 모든 것을 파헤쳐 봅니다. 축구장 8개 크기의 클린룸에서 300mm 실리콘 웨이퍼 한 장이 1,150만 개의 CPU가 되기까지, 3개월에 걸친 940단계의 대장정을 따라가 보세요.




#반도체 #마이크로칩 #CPU제조 #반도체공정 #3D애니메이션 #공학 #과학기술 #8대공정 #포토리소그래피 #트랜지스터 #Semiconductor #Microchip #CPUmanufacturing #Engineering #Tech

tsmc에서 수율 60% 이상이 알려진 이후 하반기 새로운 GAA 구조를 적용한 2nm 공정 대량생산이 준비 완료되었다는 소식이 전달되었습니다. 기존 대비 성능 최대 15% 개선, 전력 효율 30% 개선을 기대하고 있는 2nm는 더 많은 팹리스들이 AI와 엣지디바이스, 아이폰 등 다양한 기기에서 프로세서 생산에 활용될 것으로 기대되는데요. 현 tsmc 2nm 공정과 함께 아이폰 매출량이 공정 전환에 따라 얼마나 바뀌었는가 까지 알아봅니다
#tsmc #2nm #GAA #수율

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unrealtech2021@gmail.com

TSMC의 ‘파운드리 2.0’ 전략은 전통적 웨이퍼 제조를 넘어 첨단 패키징과 부가 서비스 영역으로 확장해 고객 맞춤형 솔루션 제공에 주력하고 있습니다. 이는 현재 큰 반도체 흐름이기도 하지만, 독과점에 대비한 tsmc의 움직임으로도 파악되는데요. 동시에, 트럼프 행정부는 미국 내 반도체 생산 기반 강화를 위해 TSMC에 강력한 압박을 가하며, 외국인 소유 제한 등 규제 조건을 부각시키는 중에 tsmc가 퀄컴, NVIDIA, AMD와 같은 미국 설계기업들과 함께 지분을 나누어 인텔 파운드리 서비스의 JV 설립을 먼저 제안해서 화제입니다. 양사의 기술 결합이 전공정 통합보다 후공정 및 패키징 분야에서 더욱 큰 시너지 효과를 낼 가능성이 높다는 점을 분석해보았는데요. 합작 JV는 미국 내 첨단 생산 능력 확충과 기술 혁신 촉진에 기여하며, 정부 정책 지원과도 맞물려 긍정적인 효과를 낼 가능성을 분석하였습니다.
이와 함께, 트럼프 압박이 TSMC를 통해 미국 제조 기반을 강화하고, 인텔의 기술 전환에 촉매 역할을 할 가능성도 살펴봅니다. 삼성 파운드리가 조금 더 빨리 움직였다면 하는 아쉬움이 있지만, 정지훈 박사님의 medium 글까지 살펴보시면서 향후 파운드리 업계 재편에 대해 고민해보았습니다.


늘 좋은 인사이트 주시는 정지훈 박사님/대표님 감사합니다.

정지훈 박사님 Medium 기고 글 (영상 내 소개): https://medium.com/@hiconcep/t....he-crisis-of-silicon

정지훈 박사님 YouTube: https://www.youtube.com/@Infor....mationandIntelligenc

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중국은 오랜 기간 동안 반도체 기술 의존도를 줄이기 위해 자립 노력을 강화해 왔으며, EUV 기술 분야에서도 자체 연구 개발에 박차를 가하고 있습니다. 2025년 가을 화웨이는 이 EUV 장비의 시범생산을 이야기하고 있는데요. 중국의 반도체 자립 전략은 포토레지스트 재료, 정밀 광학 및 초고진공 시스템 등 핵심 기술 부문에서 기술 개발을 집중하고 있습니다. 이를 통해 중국은 국제 제재와 기술 제한 속에서도 선진 반도체 공정에 필요한 EUV 기술의 내재화를 추진하고 있습니다. EUV 리소그래피는 극자외선(약 13.5nm 파장)을 사용하여 반도체 칩의 패턴을 미세화하는 혁신적인 기술입니다. 이 짧은 파장은 회절 한계를 극복해 5nm 이하의 선폭을 구현할 수 있도록 도와줍니다. 또한, EUV 공정은 고해상도와 정밀한 패터닝을 가능하게 하지만, 극한의 진공 환경과 정밀한 광학 부품, 그리고 복잡한 온도 제어 시스템이 필수적입니다. 그럼에도 불구하고 중국은 반도체 제조 전반에서 외부 의존도를 크게 낮추고 글로벌 경쟁력을 강화할 수 있을 것입니다. EUV 리소그래피의 발전과 중국의 자립 노력은 향후 반도체 산업의 판도를 바꾸는 핵심 요소로 주목받고 있습니다.

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이번 영상은 TSMC와 인텔 간의 JV 루머를 정치적·기술적 관점에서 심도 있게 분석합니다. 정치권에서 제기되는 TSMC 엔지니어 파견 설이 기술자 입장에서는 현실성이 없다는 점을 짚어봅니다. 인텔의 선단 공정은 이미 자체적으로 18A 및 3nm 기술을 완성 단계에 이르렀습니다. 이러한 상황에서 엔지니어 파견은 실질적 기술 지원 효과가 미미할 것으로 보입니다. 또한, 인텔과의 협력이 TSMC의 총 마진에 부정적인 영향을 줄 수 있다는 분석도 있습니다. 대신, TSMC가 미국 내 어드밴스드 패키징 팹을 구축하는 전략이 더 유리하다는 점을 강조합니다. 이 전략은 생산 공정의 효율성과 공급망 최적화를 동시에 달성할 수 있습니다. 영상에서는 구글어스를 활용해 실제 팹 위치를 직접 확인하는 장면도 담았습니다. 이를 통해 지리적 요소와 기술 인프라의 중요성을 생생하게 전달합니다. 정치와 기술의 교차점을 통해 반도체 산업의 미래를 재조명하는 내용을 만나보세요.

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TSMC와 인텔이 2나노미터 공정에서 도입한 BSPDN(후면 전력 공급 네트워크) 기술을 소개합니다. 이 혁신적인 기술은 웨이퍼의 앞면과 뒷면을 모두 활용하여 전력 공급 효율을 극대화하는데요. BSPDN을 통해 전력선과 신호선을 분리함으로써 회로 간섭을 최소화하고, 칩의 성능과 전력 효율을 향상시킬 수 있습니다. 또한, 이 기술은 고성능 컴퓨팅과 인공지능(AI) 반도체의 발전에 중요한 역할을 합니다.
하지만 구현 과정에서의 복잡성과 비용 증가 등의 도전 과제도 존재합니다. 영상에서는 BSPDN의 작동 원리, 장점, 그리고 한계점에 대해 자세히 다루며, 이 기술이 반도체 산업에 미칠 영향에 대해 분석합니다. 또한 각 기업 별로 수행하고자 하는 철학이 다른데, 보수적인 tsmc와 1등을 쫒는 인텔의 설계/제조 차이점도 확인해보시죠
#tsmc #BSPDN #효율

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TSMC, 인텔, 삼성전자 파운드리가 진입하고 있는 2나노미터 시대의 기술적 차이점을 정리해봅니다. FinFET에서 이제 GAA(Gate-All-Around) 구조의 전환, 각 기업들의 차별성과 기술 전략을 심층적으로 분석하였는데요. TSMC의 Nano Sheet, 삼성전자의 MBCFET(Multi-Bridge Channel FET), 그리고 인텔의 RibbonFET 기술은 각각 고유한 설계 철학을 반영합니다.
이 기술들은 더 작은 칩 크기와 더 높은 전력 효율을 달성하기 위해 필수적입니다. 영상에서는 Nano Wire와 Nano Sheet의 물리적 구조 차이와 그 성능적 의미를 정리하고, 각 기술이 전력 소모와 성능에서 어떤 경쟁력을 가지는지도 비교합니다.
#tsmc #삼성 #인텔

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애플의 맥북, 아이패드 및 서버용 프로세서로 채택될 M5 칩이 기존의 단일 SoC 설계가 아닌, CPU와 GPU를 분리한 칩렛 설계를 채택하여 성능과 효율성을 극대화할 것으로 기대됩니다.
TSMC의 최신 SoIC(System on Integrated Chip) 패키징 기술이 적용될 것이라는 전망이 궈밍치 분석가로부터 알려지게 되었는데요. AMD의 3D V Cache 기술에 일찍이 적용된 3D 칩 스태킹과는 조금 다르게 수평적으로 연결하는 horizontal molding 방식으로, 열 관리와 전력 효율이 향상될 전망입니다. 애플은 이러한 기술을 통해 소비자용 Mac과 AI 클라우드 서버 모두에서 성능 향상을 목표로 하고 있는 것으로 알려져있는데요.
내년도에 출시한 M5, M5 Pro, M5 Max와 더불어 내후년 M5 Ultra까지, 애플의 Private Cloud Compute를 통해 On-Device AI와 서버용 AI까지 모두를 아우르는 동시에, 2나노 적용을 포기하고 N3P 공정을 사용했음에도 칩렛을 통한 수율 향상과 성능 개선을 노리고 있습니다.
#애플 #M5 #TSMC

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2025년 양산 목표인 tsmc 2나노 공정의 초기 생산 테스트 수율이 60%라는 놀라운 결과가 대만 자유시보를 통해 전해졌는데요. 인텔 18A의 수율이 10% 미만, 삼성 파운드리 3나노 2세대가 20% 수준이라고 루머가 돌고 있는 상황에서, FinFET 대신 최초로 Gate-All-Around 구조를 채택한 tsmc 2nm의 수율이 60%라 놀라움을 사고 있습니다. 애플, AMD, NVIDIA, Mediatek 등 수많은 기업들이 관심을 보이는 상황에서 얼마 전 인텔 퇴임했던 전 CEO 팻 겔 싱어는 SNS를 통해 수율을 %로 이야기하는 건 잘못된 게 많다는 의견을 주었는데요. 칩 크기와 Defect Density에 따라 달라지는 수율의 계산 방법에 대해 정리하면서 팻 겔싱어의 생각과 tsmc의 웅장한 기술력에 대해 살펴보았습니다.
#2nm #인텔 #tsmc

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NVIDIA AI 데이터센터 용 GPU가 시장에서 품귀 현상을 보이는 이유, 핵심은 바로 TSMC의 ‘CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate)’ 공정 병목에 있는데요. CoWoS 기술은 고성능 GPU를 위한 필수 공정이지만, 생산 용량에 한계가 있습니다. 현 레티클 한계에 따른 칩의 가장 큰 사이즈 858mm2 보다 더 넓은 범위로 칩들을 서로 연결하기 위한 실리콘 인터포저는 웨이퍼 전공정 과정을 거치기에 웨이퍼 당 나오는 인터포저 개수 자체가 일반 칩도다 훨씬 작은데요. 이번 영상에서는 CoWoS 공정의 기술적 원리와 병목이 발생하는 구조를 설명합니다. 또한 TSMC가 CoWoS 공정에 대규모 투자를 단행하며 병목 해결을 시도하고 있는 상황, 인텔, 삼성을 비롯한 다른 파운드리들이 투자를 줄이는 상황에서 압도적 1위 tsmc의 행보가 더욱 과감해보이는데9요. CoWoS 공정이 향후 AI 반도체 시장에 미칠 파급력도 분석해 보았습니다.
#TSMC #엔비디아 #GPU

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아이폰 18이 TSMC 대신 인텔 파운드리에서 생산될 가능성이 제기되고 있습니다. 애플이 새로운 파운드리 전략은 반도체 업계의 지형을 크게 바꿀 수 있다는 것인데요. 최근 tsmc의 3nm 공정 웨이퍼 단가는 2만달러 이상으로 치솟을 것으로 예상되고 있어 팹리스들의 부담이 가중되고 있는 상황인데요. 내년의 주류가 될 N3P, N3X 와 같은 공정과 5nm (N5, N4, N4P) 등의 주력 노드들은 내년까지 팹 전원 풀 가동으로 예상되는 상황에서, 세계에서 가장 많은 칩을 생산하는 아이폰 시리즈 칩셋을 인텔이 생산하게 된다면 과거의 tsmc처럼 인텔 역시 제조경쟁력이 올라갈 가능성이 있습니다. 특히, 인텔의 최신 기술인 ‘RibbonFET’과 ‘PowerVia’가 모두 적용된 1.8nm (18A) 이하 공정에서 tsmc와 견줄만한 성능을 낼지, 충분한 수율로 생산성이 나올지가 관건인 상황인데요. 트럼프 2기 행정부는 자국 보호무역주의가 강해질 것으로 예상되는 가운데, 미국 내 팹 활성화를 위해서도 인텔의 파운드리가 그저 망할 것 같지는 않은데요. 이번 영상에서는 애플이 왜 TSMC를 대신할 파운드리를 고려하고 있는지, 인텔 파운드리의 가능성과 도전 과제, 트럼프 2기와 미국 반도체 산업 재편의 연관성 등을 분석합니다.
#아이폰18 #애플 #인텔

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인텔의 데스크톱용 신규 프로세서 Core Ultra Series 2, 코드명 Arrow Lake 는 인텔이 주장했던 벤치마크 수치보다도 최대 10% 낮은 성능을 보이는 동시에 결함이 있다는 이야기가 제기되면서 또 한번 이슈인데요. Meteor Lake에서와 같이 Tile 구조를 통해 수율을 높이는 방식을 채택했던 인텔은 Arrow Lake에서 tsmc가 제조하게 되면서 설계의 인텔과 제조의 tsmc가 만난 역작으로 기대되었습니다. 그러나 실제 성능이 제대로 나오지 않은데, OS와 BIOS 최적화, microcode 알고리즘의 수정으로 12월 초까지는 수정해놓겠다며, 기대했던 바가 아니라는 인텔의 공식 발언이 있었는데요. 원인으로 지목받는 P 코어, E 코어의 OS 스케줄링 이슈 문제가 무엇인지, 여전히 해결되지 않고 있는 전 세대 Rator Lake의 이슈 문제들과 결부하여 최강이라는 이름의 자리 조차 리사수 AMD의 라이젠에 밀리고 있는 현 상황을 분석하였습니다.
#인텔 #애로우레이크 #결함

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갤럭시 워치 7 40mm를 구매한 이유를 소개합니다. 워치 4에서 업그레이드한 이유, 애플워치나 가민 대신 이 모델을 선택한 배경, 그리고 울트라 모델을 사지 않은 이유를 공학적인 시각에서 분석했는데요. 갤럭시 워치 7이 과연 러너에게 적합할까요? 워치 4에서 7로 넘어오면서 느낀 변화와 기술적인 차이를 분석해보고, 3nm 칩셋, 듀얼 밴드 GPS, 심박수 모니터링 등 워치 7만의 강력한 기능을 통해 애플워치나 가민 대신 선택할 가치가 있는지에 대한 솔직한 생각을 정리해보았습니다.

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안녕하세요, 오늘은 TSMC의 인터포저 기술과 관련된 흥미로운 강연을 소개해 드리겠습니다. 최근 NVIDIA의 칩 생산 부족 사태의 원인으로 지목되고 있는 이 기술은, TSMC조차도 해결하기 어려운 난제로 알려져 있습니다. NVIDIA의 CEO 젠슨 황은 "유리 기판 좀…"이라며 안타까움을 표현했는데요, 이는 TSMC가 아무리 잘 해도 코어스 패키지를 만들기 위해서는 다른 파운드리 업체와의 협력이 필수적이기 때문입니다. 현재 NVIDIA는 UMC 등 다른 업체와 협력 중이며, 2024년에는 코어스 생산 케파를 확대할 계획이라고 합니다. 이로 인해 인터포저 생산량 역시 증가할 것으로 예측되고 있습니다. 그렇다면 왜 이런 일이 발생하는 걸까요? 강연에서는 인터포저의 종류와 장단점, 그리고 향후 전망에 대해 자세히 다룰 예정입니다. 반도체 업계의 최신 트렌드에 관심 있는 분들께 유익한 시간이 될 것으로 기대합니다.

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tsmc 3nm 공정이 없다면 현재 반도체 시장이 멈춥니다. N3B와 N3E 공정을 토대로 애플의 아이폰 16 시리즈, 맥북 아이패드의 M3, M4 칩은 물론 인텔의 랩탑용 칩 루나레이크와 함께 향후 NVIDIA H200 과 Rubin, AMD의 Turin 아키텍처의 서버용 CPU까지 쏟아지는데요. 3nm 공정 별로 향후 N3P, N3X 공정이 등장할 예정에 각 공정 별 어떤 차이가 있는지, 어떤 제품들이 나오는지 정리해보았습니다.
#tsmc #3nm #반도체

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인텔의 매출/영업이익 난으로 인해 파운드리 분사를 공식화하면서 시장의 반응이 좋은데요. 유럽의 독일, 폴란드 팹 건설을 잠정 보류하는 대신 미국은 지속하면서 재기를 노리고 있습니다. 그 와중에 AWS의 자체 AI 커스텀 칩의 패브릭 설계를 인텔 18A으로 제조한다는 것이 알려지면서 관심이 모아지고 있는데요. Inferentia나 Tranium과 같은 AI 칩은 아니지만, 초대형 클라우드 사업자인 AWS가 AI 칩을 연결하는 패브릭을 인텔 18A으로 설계한다는 것은 의미가 있습니다. Microsoft 역시 이전에 자체 칩 설계를 인텔 18A으로 한다는 말이 있었는데요. Qualcomm에는 퀄을 받지 못했고 tsmc의 3nm급이라고 평가받는 이 공정이 제대로 성숙화될만한 조건이 갖추어지고 있습니다.
#인텔 #파운드리 #AWS

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인텔의 파운드리 매각설과 FPGA 사업부 매각설에 시장 조차 더이상의 재기를 상상하기 힘든 상황인데요. 14nm 공정을 7년동안이나 사용하며 첫 공정 지연을 한 인텔은 이후 사파이어래피즈, 13세대 14세대 cpu의 결함 이슈 등 다양한 문제를 안으며 계속 위기를 겪었습니다. 지난 2022년 인텔 비전 행사에서 2025년에 반드시 일어나겠다고 했던 인텔이 4년만에 5개의 반도체 공정을 성공하겠다는 말이 무색하게 20A 공정은 포기, 18A은 브로드컴으로부터 양산 승인을 받지도 못했는데요. 과거 인텔 영광의 시대부터 지금까지의 공정 개발 내용을 살펴보면서 현재 반도체 제조와 관련된 내용을 정리해보았습니다.
#인텔 #파운드리 #반도체

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x86 최초 ARM의 전성비를 이겼습니다. 인텔의 노트북용 칩 Core Ultra 2세대, 코드명 Lunar Lake의 칩이 드디어 출시되었습니다. 본격적인 노트북 제품은 9월 24일에 출시 예정인데, 전성비가 미쳤네요. 인텔 공정은 베이스 타일의 포베로스 D2D 인터포저로 엮는 것만 하고 tsmc N3B 공정까지 활용하여 일정 지연 없이 우수한 성능, 우수한 전력 소비로 주목받고 있는데요. 특히 하이퍼 스레딩을 없애고 단일 코어의 엄청난 성능 증가는 눈에 띄며 데스크톱 PC에서도 기대하게 합니다. LPDDR5X를 일체화한 SoC로 애플과 비슷한 구조를 가진 루나레이크 정리해보았습니다.
#인텔 #루나레이크 #LunarLake

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NVIDIA 젠슨황 CEO는 이번 실적 발표에서 차세대 AI GPU인 Blackwell의 결함을 인정하고 또 이를 해결했다고 발표했습니다. 포토마스크 변경으로 수율을 올리기 위한 작업이라고 설명하며, 하반기 B200 칩 생산에 지연이 없을 것이라고 이야기한 것인데요. 얼마 전 설계/생산 결함으로 최대 3개월까지 지연될거라고 소문이 돌았던 것과 이번 결함이 정말 큰 이슈인지, 이번에 변경했다는 마스크는 무슨 역할을 하며, tsmc 잘못은 없는지 정리해보았습니다.
#엔비디아 #B200 #결함

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애플이나 퀄컴 등 3나노 기반 제품들이 나오고 있는 상황에서 파운드리 선두주자 TSMC는 물론 오래전부터 인텔에서 PowerVia라는 브랜드로 더 잘 알려진 후면 전력 공급 네트워크, BackSide Power-Delivery Network BSPDN에 일제히 관심이 높아지는데요. FinFET에서 GAA로 넘어가는 것도 모자라 공정 과정에서의 거대한 변화를 이는 BSPDN이 왜 꼭 필요한지를 알려면, 웨이퍼에 트랜지스터를 만드는 FEOL 이후 금속들로 전력과 신호 선을 연결하는 BEOL과정에서의 한계를 알아야 합니다. 반도체 로직 공정 과정을 알게 되면 왜 IR Drop과 같은 것이 문제가되는지 이해할 수 있는데요. 오늘은 BSPDN이 차세대 로직 공정 파운드리 기술에 왜 핵심기술이 되었는지 정리하였습니다.
#반도체 #2nm #파운드리

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tsmc가 새로운 공정 로드맵을 발표하였습니다. 2nm에서 드디어 Gate-All-Aroud 구조를 사용하고 BSPDN과 같은 후면전력공급네트워크는 인텔의 PowerVia와는 다른 Power Rail 구조로 가는데요. 이보다 더 중요한 것은 1.6nm (A16)으로 가더라도 High NA EUV를 도입하지 않고 자체 노하우로 EUV를 사용하여 대응한다는 거죠. 단순히 차세대 노광 장비만 가져온다고 갑자기 공정 제조 능력이 올라가는 것이 아닌 것을 tsmc가 데이터로 보여주었습니다.
#tsmc #2nm #1.6nm

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인텔 다이렉트 행사에서 ARM CEO, Microsoft CEO 사티아 나델라는 물론, 미국 상무부장관까지 등장하는데요. 1.8nm 칩을 제조하게 된 Microsoft 자체 칩 수주라는 깜짝 발표와 함께 본격적으로 칩스법의 보조금 지급의 가장 큰 수혜자로 기대되는 인텔, 팻 겔 싱어는 행사 내내 미소가 가득합니다. 2030년 파운드리 시장 2위를 이야기하며 미국 곳곳에 팹이 건설되고 있는 지금, 인텔의 재정비된 로드맵을 바라보며, tsmc 와의 경쟁이 어떻게 진행될지 정리해보았습니다.
#인텔 #tsmc #1.8nm

*인텔 컨퍼런스 중계 결과를 공유해주신 “블레이더영혼” 님께 감사 인사를 드립니다!

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Edited by 이진이

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tsmc 모리스창 (장준머우) 이후 CEO를 지내고 있는 웨이저자가 tom's hardware 인터뷰에서 인텔의 파운드리 경쟁력에 도발을 했습니다. 올해 하반기 3nm, 내년 상반기 2nm (20A), 하반기 1.8nm (18A) 의 바쁜 걸음 중인 인텔 파운드리의 실제 성능, 전력, 면적 (PPA)는 25년에 출시될 tsmc의 개선된 3nm 공정 N3P에 준하거나 못하다는 말인데요. Gate-all-around (GAA)구조의 RibbonFET과 후면 전력 공급 네트워크 (Back-Side Power Delivery Network)까지 접목한 인텔의 공정인데 tsmc는 왜 경쟁력이 없다고 생각하는 걸까요?
#tsmc #3nm #인텔 #1.8nm #파운드리

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Edited by 이진이

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아이폰15 프로 시리즈에서 잠깐 사용해도 온도가 46~47도까지 올라가면서 예상보다 우려가 많은데요. 새로 탑재한 A17 Pro의 경우 세계 최초 tsmc의 3nm 공정 N3B를 적용했는데 수율 55% 밖에 나오지 않아 퀄리티가 떨어지는 것 아닌지 의심이 됩니다. 또 한편으로는 애플의 저명한 분석가 궈밍치는 칩셋 문제라기 보다는 티타늄 바디의 패시브 쿨링이 잘 되지 않는다는 이야기도 나오는데요. 기술적으로 어떤 배경일 수 있는지, 향후 애플 판 GOS 가 적용되는 것인지 알아보도록 하겠습니다!

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Edited by RM봄

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#아이폰15 #애플 #GOS #A17Pro #TSMC #3nm #Titanium #Galaxy