채널의 길이가 짧아지며 발생하는 문제에 대한 개념 정리입니다.

DIBL 과 Punch Through 위주로 다루었습니다.

DRAM 셀 트랜지스터 소자 설계의 핵심적 요소 중 하나인 GIDL 에 대한 강의입니다.

#반도체강의 #반도체소자 #반도체면접 #반도체취업 #삼성전자 #하이닉스 #메모리 #파운드리

회로 동작 속도에 큰 영향을 미치는 RC-딜레이에 관한 설명입니다.
이의 발생 원인 및 해결 방안을 간략하게 담고 있습니다.

#반도체강의 #반도체면접 #반도체취업 #파운드리 #MBCFET #gaa

Stacked Nanosheet GAA 구조의 공정 순서입니다.
2017년에 발표된 논문을 바탕으로 구성했습니다.

#FinFET #파운드리 #14nm공정 #반도체 #취업 #반도체소자 #반도체강의

14nm 공정부터 사용된 bulk FinFET 공정 과정에 대한 설명입니다.
3차원 CAD 를 이용해 모델링 한 그림을 사용했습니다.

#반도체강의 #반도체소자 #반도체면접 #반도체취업 #삼성전자 #하이닉스 #메모리 #FLASH #플래시

플래쉬 메모리 동작의 기초입니다

#7nm #7나노 #반도체 #파운드리 #반도체소자 #삼성전자 #인텔 #tsmc

영상에 문제가 있어 다시 업로드 합니다~

MOSFET 수식 전개 중 기본적인 공식인 드레인 전류 식 유도 과정입니다. !

#mosfet #반도체 #반도체소자 #삼성전자 #TSMC #파운드리 #면접 #대학원 #취업

#RRAM #ReRAM #차세대메모리 #메모리 #삼성전자 #DRAM #FLASH

반도체 소자 첫 강의입니다.
실리콘 결정, 전자와 정공의 개념, 페르미 에너지와 전자 정공의 밀도에 대해 다룹니다.
궁금하신 점 있으면 댓글로 남겨 주세요 ㅎㅎ

(강의 목차)
제 1 절 Introduction
1-1. MOSFET 개요
1-2. DRAM 개요

제 2 절 기초 반도체 물성
2-1. 반도체의 전자와 정공

두번쨰 인트로 강의입니다.
본 강의에 들어가기 앞서, 소자 설계에 관한 사례를 소개하려 합니다.
아주 친숙하고, 우리나라에 많은 돈을 벌어다 주는 (ㅋㅋㅋ..) DRAM 입니다.
혹시 어려우시다면 이번 강의는 그냥 패스하셔도 무방합니다.

(강의 목차)
제 1 절 Introduction
1-1. MOSFET 개요
1-2. DRAM 개요

제 2 절 기초 반도체 물성
2-1. 반도체의 전자와 정공

#반도체강의 #반도체소자 #반도체면접 #반도체취업 #삼성전자 #하이닉스 #메모리 #파운드리

반도체 소자 강의 인트로입니다.
기초적인 MOSFET 동작의 직관적 이해애 관해 다룹니다.


(강의 목차)
제 1 절 Introduction
1-1. MOSFET 개요
1-2. DRAM 개요

제 2 절 기초 반도체 물성
2-1. 반도체의 전자와 정공

#반도체강의 #반도체소자 #반도체면접 #반도체취업 #삼성전자 #하이닉스 #메모리 #파운드리

반도체 소자 강의 인트로입니다.
기초적인 MOSFET 동작의 직관적 이해애 관해 다룹니다.


(강의 목차)
제 1 절 Introduction
1-1. MOSFET 개요
1-2. DRAM 개요

제 2 절 기초 반도체 물성
2-1. 반도체의 전자와 정공

반도체 스토리 1편! 진공관 이야기
전자 공학 및 반도체가 어떻게 탄생했는지, 진공관의 원리는 무엇인지 등의
공학 스토리를 다룹니다.

#반도체 #진공관 #공학

반도체 스토리 2편!
반도체라는 단어의 의미 및 전도대 이론에 대해
간략히 살펴보겠습니다.

#반도체 #공학 #과학

반도체 스토리 3편!
순수 실리콘에 불순물을 주입하여 제작하는
P형 반도체 및 N형 반도체의 이론에 관하여
간략히 살펴보겠습니다.

#반도체 #공학 #과학

반도체 스토리 4편!
P형 반도체와 N형 반도체를 접합하면 어떠한 일이 생기는지
다이오드는 무엇인지 간략하게 살펴보겠습니다.

#반도체 #공학 #과학

반도체 스토리 5편!
트랜지스터의 동작 원리를
N채널 MOS FET을 기준으로
간략히 살펴보겠습니다.

#반도체 #공학 #과학

반도체 스토리 6편!
웨이퍼 제조부터 반도체 전공정, 후공정까지
반도체 제조 공정을 전체적으로 살펴봅니다.

#반도체 #공학 #과학

반도체 스토리 7편!
반도체 디바이스의 분류 및 종류부터
반도체 회사의 종류까지!
반도체 산업에 대해 전반적으로 살펴보겠습니다.

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#반도체 #공학 #과학

반도체 스토리 8편!
차량용 반도체 산업 이야기!
차량용 반도체 종류부터
차량용 반도체 산업의 특징까지!
차량용 반도체 산업에 대해 전반적으로 살펴보겠습니다.

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#반도체 #차량용반도체 #반도체전망

반도체 스토리 9편! 실리콘 이야기!
반도체 산업에서 실리콘이 주로 사용되는 이유를 알아보겠습니다.
실리콘과 게르마늄 두 재료를 비교하며 실리콘의 특성을 살펴봅니다.

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#반도체 #반도체소재 #반도체공정

반도체 스토리 10편!
낸드 플래시의 개념부터 동작 원리!
낸드 플래시 구조의 변천사까지!
본 영상에서는 낸드 플래시에 대해 간략히 살펴봅니다.

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#낸드플래시 #반도체 #메모리반도체

반도체 스토리 11편!
D램의 개념부터 동작 원리!
D램이 작아질 때 발생하는 문제들까지!
본 영상에서는 D램에 대해 간략히 살펴봅니다.

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#d램 #메모리반도체 #반도체

반도체 스토리 12편!
AI 분야에서 GPU 반도체가 주로 사용되는 이유를
GPU와 CPU를 비교하며 살펴봅니다.
AI 및 GPU가 궁금하신 분들은
본 영상 시청 부탁드립니다.

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#gpu #반도체 #ai반도체

이번 시간에는 요근래 굉장히 핫해진
HBM이라는 메모리 반도체를 살펴볼 예정입니다.
HBM의 개념, 인기가 많아진 이유
마지막으로 HBM의 구조 및 원리를 간략히
살펴볼 예정인데 HBM에 관심이 있으신 분들은
본 영상 많은 시청 부탁드립니다.

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#hbm #메모리반도체 #반도체

반도체 스토리 14편!
ASML이라는 회사가 무엇을 하는 회사인지부터
기본적인 노광 공정 관련 이야기까지!
ASML 및 반도체 산업이 궁금하신 분들은
본 영상 끝까지 시청 부탁드립니다.

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#반도체 #asml #반도체산업

반도체 스토리 15편!
현재 핫한 HBM 다음 메모리 반도체 기술은 무엇일까요?
일반적으로 HBM 다음 메모리 반도체 기술로
PIM 반도체가 거론되고 있습니다.
이때, PIM 반도체는 어떠한 기술이고
어떠한 구조를 가지고 있을까요?
본 영상에서는 PIM 반도체를 간략히 살펴봅니다.

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#ai반도체 #메모리반도체 #hbm

반도체 스토리 16편!
오늘은 일본 반도체 산업에 대해 간략히 살펴보려고 합니다.
전 세계 반도체 산업 생태계에서 일본 반도체 산업이 어떠한 역할을 하고 있는지를
상세하게 살펴 볼 예정인데
반도체 산업에 관심 있으신 분들은 많은 시청 부탁드립니다.

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#반도체 #반도체산업 #반도체전망

반도체 스토리 17편!
오늘은 반도체 공정 엔지니어분들께 정말 중요한 개념 중 하나인 수율에 대해 살펴보려고 합니다.
수율의 개념, 관련 공정 등을 함께 살펴 볼 예정인데 반도체 공정에 관심 있으신 분들은 많은 시청 부탁드립니다.

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#반도체공정 #반도체산업 #반도체

반도체 스토리 18편!
오늘은 반도체 cmp 공정에 대해 자세히 살펴보려고 합니다.
cmp 공정이 무엇인지, 과정, 원리, 관련 회사까지 함께 공부할 예정인데
cmp 공정이 궁금하신 분들은 본 영상 끝까지 시청 부탁드립니다.

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#반도체공정 #반도체 #반도체산업

반도체 스토리 19편!
오늘은 반도체 유리 기판에 대해 함께 이야기 해 보려고 합니다.
유리 기판이 궁금하신 분들은
본 영상 끝까지 시청 부탁드립니다.

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#유리기판 #반도체소재 #반도체산업

반도체 스토리 20편!
오늘은 반도체 공정에 자주 쓰이는
플라즈마 상태에 대해 함께 이야기 해 보려고 합니다.
플라즈마 상태가 무엇인지 궁금하신 분들은
본 영상 끝까지 시청 부탁드립니다.

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#플라즈마 #반도체공정 #반도체산업

반도체 스토리 21편!
오늘은 반도체를 왜 작게 만드는지,
작게 만들면 무엇이 좋은지를 간략히 설명하려고 합니다.
본 이유가 무엇인지 궁금하신 분들은
본 영상 끝까지 시청 부탁드립니다.

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#반도체 #반도체소재 #트랜지스터

반도체 스토리 22편!
오늘은 반도체 패키징 혹은 후공정의 개념 및
패키징 공정이 왜 중요해졌는지를 간략히 설명하려고 합니다.
본 이유가 무엇인지 궁금하신 분들은
본 영상 끝까지 시청 부탁드립니다.

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반도체 스토리 23편!
오늘은 반도체 내 누설 전류 및
반도체 크기가 작아지면 생기는 발열 이슈를
간략히 설명하려고 합니다.
본 내용이 궁금하신 분들은
영상 끝까지 시청 부탁드립니다.

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#누설전류 #반도체 #전자기기발열

반도체 스토리 24편!
오늘은 LED가 어떻게 빛을 내는지
발광 반도체 혹은 광학 반도체의
기본적인 원리에 대해 간략히 살펴보려고 합니다.
본 이유가 무엇인지 궁금하신 분들은
본 영상 끝까지 시청 부탁드립니다.

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#반도체소재 #반도체 #발광반도체

반도체 소재 제조를 위해 지구 저궤도에 제조 시설을 만드는 시도가 진행 중입니다.
이들은 왜 이런 시도를 하는 걸까요?
오늘은 반도체 소재를 우주에서 제조하려는 이유와 현황에 대해 간략히 살펴보려고 합니다.

#반도체시장 #반도체산업 #반도체전망

반도체가 어떻게 데이터를 저장할 수 있는지에 대해 배워보는 '메모리반도체소자' 강의에 대한 소개입니다.

메모리가 어떻게 구성되는지 전체적인 구조와 함께 각 부분의 역할에 대해 개념적으로 이해해 봅니다.

메모리의 계층도를 이해하고, 각각의 메모리가 가지는 장단점에 대해 알아봅니다.

SRAM 에서 read/write operation 이 수행되는 과정에 대해 알아봅니다.

SRAM 의 static noise margin (SNM) 에 대해 알아 봅니다.

SRAM cell 사이즈를 이해하기 위해, SRAM cell 의 layout 과 feature size 에 대해 알아봅니다.

device variability 가 SRAM 동작에 미치는 영향에 대해 알아봅니다.

SRAM 의 동작에 문제를 발생시킬 수 있는 몇몇 현상들에 대해 이해해봅니다.

기초반도체공정 강의에 대한 소개입니다. 본 강의는 기초적인 수준에서 반도체공정을 이해하는 것을 목표로 합니다.

실리콘이라는 물질을 왜 사용하는지에 대한 이유와, fab 안에서 사용하는 liquid chemical 과 gas 의 위험성에 대해 알아봅니다.

대부분의 반도체공정이 왜 진공상태에서 진행되는지 이해해보고, 플라즈마에 대해 간단히 알아봅니다.

반도체 공정중 발생할 수 있는 오염원들(contamination)에 대해 알아보고, 클린룸(cleanroom)에 대한 기본 상식을 배워봅니다.

다양한 오염물들을 제거하기 위해 개발되어 공식적인 방법으로 사용중인 RCA clean 에 대해 알아보고, 그 밖에 다른 cleaning 방법에 대해서도 알아 봅니다.

oxidation 공정에 대해 이해해보고, SiO2 가 어떠한 장점을 가지고 있는지 알아봅니다. 그리고 Si/SiO2 에서 발생하는 dangling bond 에 대해서도 이해해봅니다.

oxidation 과정을 수학적으로 기술한 모델인 Deal-Grove model 을 유도해보고, oxidation 공정에 미치는 여러 요인들을 이해해봅니다.

최신 MOSFET 공정에는 oxidation 이 사용되지 않는 이유에 대해 이해해봅니다.

photolithography 공정 전과정을 간략하게 요약하여 이해해봅니다.

photolithography 에 사용되는 광원의 파장이 미치는 영향에 대해 이해해 봅니다.

positive/negative PR 의 차이점에 대해 알아보고, photolithgraphy 전과정에 대해 자세히 알아봅니다.

etching 의 성능을 평가할 때 주로 사용하는 용어들의 정의와 의미에 대해 알아봅니다.

wet etching 과 dry etching 의 차이점을 이해하고, dry etching 의 방식에 대해 자세히 알아 봅니다.

도핑을 위해 주로 사용되는 ion implantation 에 대해 이해해봅니다.

도핑 프로세스의 결과를 확인하기 위한 4-point probe 측정에 대해 알아보고, sheet resistance 개념에 대해 이해해봅니다.

PVD 증착 방식 중 evaporation 에 대해 이해해 봅니다.

PVD 증착방식 중 sputtering 에 대해 알아 봅니다.

Chemical Vapor Deposition (CVD) 증착방식에 대해 이해해봅니다.

ALD(atomic layer deposition) 증착 방식에 대해 알아봅니다.

금속 배선 공정(metallization)에 대해 이해하고, Cu Damascene process 에 대해 알아봅니다.

평탄화(planarization)를 위해 사용하는 CMP 공정에 대해 이해해봅니다.

silicide 무엇인지, 왜 필요한지, 그리고 어떤 과정을 걸쳐 발전해왔는지 이해해봅니다. 그리고 현재의 FinFET 에서는 왜 사용되지 않는지도 알아봅니다.

전체적인 CMOS 공정 flow 에 대해 이해해봅니다. 우선 well 과 STI 를 형성하는 공정과정에 대해 알아봅니다.

지난 강의에 이어서 transistor 를 만드는 공정과정에 대해 이해해봅니다.

교재: Semiconductor Physics and Devices (Donald A. Neamen), Chapter 7~11

본격적인 기초반도체공학 강의에 앞서, 반드시 숙지해야 하는 기초적인 전자기학 개념을 복습합니다.
20:53 실수로 강의자료에는 x300 이 계산되지 않았습니다.
kT = 1.38e-23 [J] 이 아니라 4.14e-21 [J] 이 맞습니다.
최종 결과인 0.0259 [eV] 는 맞는 값입니다.

pn접합을 형성했을 때, 어떤일이 발생하는지 수식없이 정성적으로 이해해 봅니다.

전압이 인가되지 않은 pn junction 에서 생성되는 built-in potential 에 대해 알아봅니다.

전압이 인가되지 않은 pn junction 에서 built-in E-filed 의 세기, depletion region 의 폭을 수식적으로 기술해 봅니다.

pn junction에 forward bias 와 reverse bias 가 인가되면 어떠한 변화가 발생하는지 이해해 봅니다.

pn junction 에 reverse bias 가 인가될 때 발생하는 depletion capacitance 성분에 대해 알아봅니다.
6:25 분모에 있는 (Vbi+VR) 항에 루트가 씌어져 있는데 오타입니다. 루트를 없애야 맞습니다.

pn junction 에서 강한 reverse bias 가 인가될 때 발생하는 breakdown 현상에 대해 알아봅니다.

pn junction을 활용한 여러 반도체소자들에 대해 간략히 알아봅니다.

pn diode 를 물리적으로 해석하기 위한 준비단계로, 수식 전개 과정에 필요한 여러 가정들의 의미에 대해 알아봅니다.

pn diode 에서 depletion region 을 건너온 minority carrier 의 농도를 구해 보고, minority carrier 가 pn diode 의 전류에 어떠한 영향을 미치는지 이해해 봅니다.

pn diode 에 forward bias 가 인가되었을 때 minority carrier 가 어떻게 분포하는지에 대해 알아봅니다.

전압이 인가된 pn diode에 흐르는 전류를 계산할 수 있는 이상적인 모델(ideal current-voltage model)을 유도해 봅니다.

7:22 7:52 majority carrier 를 Pn, Pn0 라고 이야기하는데 잘못되었습니다. Pp, Pp0 가 맞습니다.

이상적인 pn diode 의 I-V 모델과 실제 측정값과의 차이점을 만들어내는 몇몇 효과들에 대해 이해해봅니다.

pn diode 에 forward bias 가 인가될 때 발생하는 diffusion capacitance 성분에 대해 알아봅니다.

금속과 반도체물질이 접합하여 만드는 Metal-Semiconductor junction (Schottky junction) 에서의 rectifying 특성과 Ohmic contact 특성에 대해 정성적으로 이해해봅니다.

metal-semiconductor junction 에 전압이 인가되지 않았을 때, 그리고 reverse bias 가 인가된 상황에 대해 물리적으로 기술해 봅니다. 그리고 reverse bias 상황에서 발생하는 depletion capacitance 성분에 대해 알아봅니다.

metal-semiconductor junction 에 forward bias 가 인가되었을 때 발생하는 전류에 대한 메커니즘과 수식적 유도과정을 이해해 봅니다.

이상적인 상황에서 고려하지 않았던 metal-semiconductor junction 에서 발생하는 여러 현상들에 대해 이해해 봅니다.

서로 밴드갭의 크기가 다른 반도체가 만드는 이종접합(heterojunction)에 대해 알아봅니다.

metal-oxide-semiconductor (MOS) capacitor 의 에너지밴드 다이어그램을 그려보고, 3가지 동작모드 (accumulation, depletion, inversion)에 대해 정성적으로 이해해봅니다.
22:10 metal 쪽에 (-)전압이 인가 된다고 설명했는데, (+)전압이 맞습니다.

metal-oxide-semiconductor (MOS) capacitor 를 해석하기 위한 준비단계로, 앞으로의 수식전개에 필요한 몇몇 파라미터들(surface potential, threshold, work function difference)에 대해 이해해봅니다.

metal-oxide-semiconductor (MOS) capacitor 에서 gate bias 가 oxide 와 semiconductor 에 어떻게 분배되는지를 이해해봅니다.

게이트 전압에 따라 바뀌는 metal-oxide-semiconductor (MOS) capacitor 의 3가지 동작모드 (accumulation, depletion, inversion)에 대한 수식을 유도해봅니다.
3:30 실리콘 쪽의 페르미레벨이 수평하기 때문에 내부에 전기장이 존재하지 않는다고 설명하였는데, 정확히는 실리콘 쪽의 밴드의 휘어짐이 없기 때문에 내부에 전기장이 존재하지 않는다고 이해해야 맞습니다.

metal-oxide-semiconductor (MOS) capacitor 에 small signal(소신호)를 인가했을 때 발생하는 capacitance 성분에 대해 이해해보고, 입력신호의 주파수에 따라 달라지는 특성에 대해 알아봅니다.

metal-oxide-semiconductor (MOS) capacitor 의 C-V 특성에 영향을 주는 여러 요인들 (oxide charge, quantum effect, poly depletion) 에 대해 이해해봅니다.

MOSFET의 동작원리를 앞에서 배운 MOS의 동작모드와 연결하여 정성적으로 이해해 봅니다.

게이트전압과 드레인전압의 크기에 따라 결정되는 MOSFET 의 동작영역에 대해 정성적으로 이해해 봅니다.

MOSFET 의 이상적인 전류-전압모델(I-V model)을 유도해봅니다.

substrate 에 전압을 인가했을 때 MOSFET 에 어떠한 변화가 발생하는지 이해해봅니다.